紅外線加熱型TDS的特點(diǎn)
紅外線加熱式升溫解吸分析儀TDS1200Ⅱ是用質(zhì)譜儀在超高真空中對樣品進(jìn)行程序化溫度時,實(shí)時觀察解吸分子的分析儀。
即使是水、氫氣、氧氣和二氧化碳等具有高背景的成分,也可以從極少量中檢測到,因?yàn)樗鼈兪窃谡婵罩袦y量的。
可以識別和量化從樣品中解吸的分子的化學(xué)種類。此外,還可以獲得解吸氣體的吸附/結(jié)合狀態(tài)、擴(kuò)散過程等信息。
非常適合測量薄膜樣品和容易被紅外線加熱的薄膜樣品。新的 TDS1200Ⅱ 是傳統(tǒng) TDS1200 系統(tǒng)的更新,并使用觸摸面板作為界面。符合 CE 標(biāo)志使用標(biāo)準(zhǔn)。
負(fù)載鎖定室對于高測量效率(高通量)和高靈敏度是不可少的。我們的負(fù)載鎖定室和樣品轉(zhuǎn)移機(jī)制只允許將樣品快速引入超高真空分析室。
如果沒有負(fù)載鎖定室,每次更換樣品時分析室都必須對大氣開放。一旦打開到大氣中,大量的大氣成分(尤其是水分)被吸附在分析室中,需要很長時間才能充分排出。
在熱解吸分析中,重要的是在加熱樣品時分析室和分析室內(nèi)的組件不被加熱。對于具有加熱腔室的結(jié)構(gòu)的TDS,很難區(qū)分從樣品中釋放的氣體和從腔室中釋放的氣體。
TDS1200Ⅱ通過石英棒導(dǎo)入的紅外線直接加熱樣品,即使在高溫區(qū)域也可將背景水平的上升降至低,可以進(jìn)行高靈敏度測量。
QMS 電離室位于樣品正上方,用于靈敏檢測解吸氣體。通過將其設(shè)置在正上方,從樣品中解吸出來的氣體可以直接到達(dá)QMS電離室,因此可以以高靈敏度檢測高氣相沉積的金屬和大分子量的有機(jī)分子。
數(shù)據(jù)處理程序可以量化解吸的氣體。有必要定期校準(zhǔn)質(zhì)譜儀的靈敏度以量化解吸氣體。
使用標(biāo)準(zhǔn)漏孔進(jìn)行靈敏度校準(zhǔn)需要與氣體類型相同數(shù)量的昂貴標(biāo)準(zhǔn)漏孔,并且校準(zhǔn)工作非常耗時。此外,在使用標(biāo)準(zhǔn)泄漏有毒氣體時,安全和健康管理變得更加嚴(yán)格。
當(dāng)前的量化程序可以比標(biāo)準(zhǔn)泄漏校準(zhǔn)方法更快、更容易、更安全地量化解吸氣體。只需定期測量我們的 NIST 可追溯氫標(biāo)準(zhǔn)樣品,即可獲得高度準(zhǔn)確的結(jié)果。經(jīng)證實(shí),我公司開發(fā)的靈敏度校正方法即使在氫氣以外的氣體中也能校正靈敏度,與基于AIST(AIST)國標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)漏孔校準(zhǔn)的定量結(jié)果吻合較好。 .